В конце прошлого года ASML начала поставки своей первой системы литографии высокой числовой апертуры (High-NA) в экстремальном ультрафиолетовом (EUV) диапазоне компании Intel, и в прошлые выходные производитель процессоров опубликовал видео, посвященное установке этого инструмента на своей фабрике недалеко от Хиллсборо, штат Орегон. Машина будет использоваться в основном для исследований и разработок.

ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV абсолютно огромна. Ее общий вес составляет около 150 тонн, что требует в общей сложности 250 ящиков.

Грузовой самолет доставил контейнер, показанный в видео, из Нидерландов в Портленд, штат Орегон, а затем грузовик доставил один из ключевых компонентов инструмента. Как видно на видео ниже, установка была произведена на фабрике, но для размещения машины потребуется около шести месяцев работы 250 инженеров ASML и Intel.

Даже когда Twinscan EXE:5000 High-NA EUV будет полностью собрана, инженерам ASML и Intel все равно потребуется ее откалибровать. Это займет недели, если не месяцы.

Инструмент ASML High-NA EUV Twinscan EXE может печатать с разрешением 8 нм, что значительно превосходит возможности используемых в настоящее время сканеров Low-NA EUV, которые ограничены разрешением 13 нм при однократной экспозиции. Это усовершенствование позволяет создавать транзисторы, которые примерно в 1,7 раза меньше, что приводит к почти тройному увеличению плотности транзисторов. Достижение критических размеров 8 нм имеет решающее значение для производства чипов с использованием технологических процессов менее 3 нм, цели, которой индустрия надеется достичь в период с 2025 по 2026 год.

Intel будет использовать литографический инструмент Twinscan EXE:5000 в основном для изучения того, как использовать технологию High-NA EUV. Компания планирует протестировать использование литографии High-NA с технологическим процессом Intel 18A (хотя и не для массового производства) и в конечном итоге принять ее для массового производства с техпроцессом Intel 14A.